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晶合集成公开基于蚀刻波形数据的进气调节方法、装置及蚀刻设备专利

(原标题:晶合集成公开基于蚀刻波形数据的进气调节方法、装置及蚀刻设备专利)

企查查数据显示,晶合集成(02249.HK)公开基于蚀刻波形数据的进气调节方法、装置及蚀刻设备专利,申请日期为2026年9月16日。专利摘要显示,本发明涉及蚀刻控制技术领域,公开了一种基于蚀刻波形数据的进气调节方法、装置及蚀刻设备,该方法包括:在通过蚀刻设备对晶圆进行蚀刻的过程中,采集晶圆的每个监测区域的蚀刻反应特征光谱,并根据所有监测区域的蚀刻反应特征光谱,生成所有监测区域的蚀刻波形数据;根据所有监测区域的蚀刻波形数据,确定所有监测区域的蚀刻波形偏差率,以对蚀刻设备进行进气调节操作。可见,实施本发明能够通过各监测区域的蚀刻波形数据,确定各监测区域的蚀刻波形偏差率,以实现蚀刻设备的自适应进气调节过程,这样,提高了蚀刻设备的进气调节可靠性和精准性,从而有利于提高晶圆蚀刻均匀性。
本文为AI基于商业动态数据生成,仅供参考。
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